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化學真空系統 PC 611 select常用于含高沸點溶劑的真空應用。該泵能夠同時搭配兩個獨立的真空應用使用。一個應用由配備直通電磁閥的VACUU·SELECT真空控制器進行控制，另一個應用由手動流量調節閥進行抽速控制。兩個真空端口都內置單向止回閥，能夠防止交叉污染互相影響。

化學真空系統 PC 610 select描述 對于需要進行電子控制蒸發或干燥（包含許多高沸點溶劑）過程的應用，我們的PC 600系列化學真空系統是一個很好的選擇。備受歡迎的MD 4C NT三級化學隔膜泵，其極限真空度為2mbar，是這些真空系統的核心組件。典型的應用包括實驗室常見應用，如旋轉蒸發、真空干燥和真空蒸餾。

普蘭德化學真空系統 PC 201 NT廣泛應用于化學、生物和制藥實驗室的排氣、蒸發或者氣體抽取等過程。主要用于和旋轉蒸發儀、真空濃縮儀或真空干燥箱等連用，非常適用于高沸點溶劑。手動流量控制閥可以調節真空接口的有效抽速，指針式的真空壓力計可顯示真空值。

化學真空系統 MD 12C NT +EK有非常廣泛地用途，如排氣、蒸發及氣體或蒸汽的抽空。其既有非常大的抽速，又非常適應高真空需求，如用于高沸點溶劑。MD 12C NT基礎泵配有一個氣鎮閥，在開啟時仍有很好的極限真空，緊湊的設計下仍有好的性能。一貫的佳的耐化學腐蝕性，使其在化學及制藥領域幾乎通用。

化學真空系統 MD 12C NT +AK+EK非常廣泛地用途，如排氣、蒸發及氣體或蒸汽的抽空。其既有非常大的抽速，又非常適應高真空需求，如用于高沸點溶劑。MD 12C NT 基礎泵配有一個氣鎮閥，在開啟時仍有很好的極限真空，緊湊的設計下仍有性能。

化學真空系統 MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK使用一個真空泵即可同時實現兩種過程控制?？膳c旋轉蒸發儀、真空濃縮儀和真空烘箱等配合使用。每個真空連接口配備一個手動控制閥來調節進氣口的有效流量。